Full resolution (JPEG) - On this page / på denna sida - 1960, H. 21 - Böcker - Streckenausbau in Stahl, av E R—s - Tantalum and niobium, av G Bg - Structure and properties of thin films, av Roland Jacobsson - Materials and processes of electron devices, av Sture Edsman
<< prev. page << föreg. sida << >> nästa sida >> next page >>
Below is the raw OCR text
from the above scanned image.
Do you see an error? Proofread the page now!
Här nedan syns maskintolkade texten från faksimilbilden ovan.
Ser du något fel? Korrekturläs sidan nu!
This page has never been proofread. / Denna sida har aldrig korrekturlästs.
orter, i varandra korsande orter och i stora rum
diskuteras ingående. Därefter behandlas förankring
och förstärkning, inbyggnad av stålvågarna samt
återvinning av dessa.
Användningen av den moderna bultförankringen,
som erhållit så stor utbredning i USA:s och
Englands kolbrytning tycks ej röna samma
uppskattning inom Ruhr-distriktet. I slutkapitlet behandlas
ekonomiska frågor och statistik.
Som bihang följer en förteckning över
illustrationerna, förteckning över DIN normblad, som gäller
för ortinbyggnad av stål, litteraturförteckning och
sakregister.
Trots att denna typ av ortinbyggnad har liten
användning i Sverige är kapitlen om bergtryck i orter
och vissa andra uppgifter av så allmän karaktär, att
de kan vara av intresse även för svenska
gruvingenjörer. E R-—s
Tantalum and niobium, av G L Millek. Butter-
worths, London 1959. 767 s., ill. 120 sh.
De båda systermetallerna niob och tantal har genom
den snabba tekniska utvecklingen under
efterkrigs-åren fått stor betydelse även för andra ändamål än
som tillsatser till stål. Kring dessa metaller har det
vuxit upp en riklig flora av uppsatser och artiklar,
så stor att den varit svår att överblicka, och därför
är det mycket tacknämligt att Dr. Miller vid Murex
Ltd. har använt sin stora erfarenhet och samlat
material från inte mindre än 858 litteraturställen i en
översiktlig monografi över dessa metaller, som torde
vara den första i sitt slag. Han har dessutom stått i
kontakt med ett tjugotal specialister på detta
område från de stora industriländerna.
Verket uppfyller ganska stora krav på
fullständighet. Efter en kort historisk översikt får man reda
på förbrukningssiffror och användningsområden för
de båda metallerna, utvinning av oxiderna ur
malmmineral, framställning av metallerna var för sig och
separation av dem från varandra, annan raffinering,
bearbetning, fysikaliska, strukturella och mekaniska
egenskaper, korrosionsförhållanden, binära
legeringar och slutligen viktigare föreningar.
Det är ett avsevärt material som ställs till läsarens
förfogande, men tyvärr är det i många fall inte så
kritiskt bearbetat som man skulle önska, utan den
icke alltid sakkunnige läsaren blir hänvisad till att
själv bedöma värdet av olika lämnade uppgifter.
Man saknar ofta sammanställningar eller
jämförande översikter, som blir svåra att göra därför att förf.
inte räknat om enheter till samma system.
I varje fall ligger det ett aktningsvärt arbete bakom
denna omfattande bok, och man får hoppas att det
skenbart höga priset inte skall avskräcka den
växande skara av tekniker och forskare, som har
anledning att intressera sig för dessa löftesrika metaller,
att skaffa sig boken. G Bg
Structure and properties of thin Films,
redigerad av C A Neugebauer, J B Newkirk & D A
Vermilyea. Wiley & Sons, New York —
Chapman & Hall, London 1959. 561 s., ill. 15 $.
Boken redovisar bidragen från en rad specialister
till en konferens behandlande tunna skikt, som
har anordnats av amerikanska flygvapnet och
General Electric. Den torde emellertid vara njutbar
även för icke-specialister, eftersom varje avsnitt
inleds med en allmän översiktsuppsats.
Det första avsnittet i boken behandlar de tunna
skiktens uppkomst, tillväxt och struktur. Teorierna
för dessa fenomen är fortfarande ganska ofullkom-
liga, och den experimentella utvecklingen befinner
sig i sin början. Viktiga hjälpmedel är
elektron-diffraktion och elektronmikroskopi, vilken senare
numera tillåter direkt observation av gitterplan i
kristaller utan alltför stort besvär.
Elektronmikroskopins styrka demonstreras också
i det följande avsnittet om mekaniska egenskaper,
som bl.a. ger exempel på direkt observation av
dis-lokationer och även deras vandring utefter ytan.
Nästa kapitel handlar om de tunna skiktens
elektriska egenskaper, vilka på ett mycket känsligt sätt
beror på närvaron av främmande atomer.
Elektronernas fria medelväglängd i skikten är av samma
storleksordning som skiktens tjocklek. Detta
behandlas i en undersökning av "fria
medelväglängds-effekter" hos alkalimetallernas ledningsförmåga av
H Mayer.
De magnetiska egenskaperna hos tunna skikt har
en stor praktisk betydelse, eftersom
ferromagne-tiska skikt används som minneselement i
automatiska räknemaskiner. För att få reproducibla
förhållanden vid undersökningarna är det väsentligt
att de utförs i ett mycket gott vakuum. I en
undersökning av magnetiseringen i Ni-skikt, hade
Neugebauer ett tryck under 10-9 torr, vilket även var
fallet i den tidigare nämnda undersökningen av
Mayer.
Bokens sista kapitel handlar om ytkemi. Där
redovisas bl.a. undersökningar med
fältelektronmikro-skop och fältjonmikroskop.
Överhuvudtaget är boken, med sin höga kvalitet
på tryck och bildmaterial, men framför allt på
grund av att artiklarna är högaktuella och försedda
med utförliga referenser, av största värde för dem
som är intresserade av denna viktiga del av det
fasta tillståndets fysik.
Roland Jacobsson
Materials and processes of electron devices,
av Max Knoll & B Kazan. Springer, Berlin
1959. 484 s., 411 fig., 124 tab. 66 DM.
En tidigare bok i detta ämne, Espe — Knoll:
"Werk-stoffkunde der Hochvakuumtechnik", utgiven av
samma förlag 1936, har länge ansetts som
vakuum-och rörteknikernas bibel. Ett nytryck av den tyska
upplagan utgavs i USA 1944.
Den nu utkomna boken utgör en modernisering av
den äldre upplagan och förutom moderniserade
materialtabeller med egenskaperna hos praktiskt taget
alla användbara traditionella material, har de för
den moderna halvledartekniken viktiga ämnena,
germanium och kisel, behandlats mera ingående.
Materialuppgifter om sådana isolationsmaterial som
glas, keramik och glimmer saknas ej heller. Men
boken innehåller inte bara materialtabeller, utan,
som titeln anger, beskrivs även de
tillverkningsmetoder som används inom vakuum- och
elektronrörstekniken.
Som uppslagsverk torde boken vara synnerligen
värdefull för alla dem som sysslar med
vakuum-teknik, det må vara i laboratoriemässig skala eller
i massframställning av glödlampor, röntgenrör,
elektronrör, halvledare el.l. De utförliga
litteraturanvisningarna (ca 2 300) synes vara väl valda, och så
vitt jag kan bedöma är de angivna recepten och
metoderna utvalda med erfarenhet av de aktuella
problemen. Man kan därför hoppas att denna bok
kan hålla sig modern länge, trots den stora
hastighet varmed utvecklingen går framåt på detta
område. Därtill bidrar naturligtvis också frånvaron av
mera modebetonade oprövade metoder.
Sture Edsman
598 TEKNISK TIDSKRIFT 1960 H. 21
<< prev. page << föreg. sida << >> nästa sida >> next page >>
